Primjena u području poluvodiča
U proizvodnji poluvodiča,volframove meteuglavnom se koriste u fotolitografiji i tehnologiji taloženja tankog filma. U procesu fotolitografije, visoka gustoća, visoka tvrdoća i niska kemijska reaktivnost volframovih meta omogućuju im preciznu kontrolu jetkanja tijekom plazma jetkanja, smanjuju nepotrebne gubitke materijala i osiguravaju finoću i cjelovitost uzoraka sklopova. U tehnologiji taloženja tankog filma, volframove mete formiraju guste filmove fizičkim taloženjem iz pare (PVD) i kemijskim taloženjem iz pare (CVD). Ovi filmovi imaju visoku tvrdoću i otpornost na trošenje, što poboljšava mehaničku čvrstoću i trajnost poluvodičkih uređaja. U isto vrijeme, njihova visoka vodljivost i niska impedancija pomažu u poboljšanju učinkovitosti provođenja struje i smanjenju potrošnje energije.
Primjena u izvoru spalacijskih neutrona
Volframove mete također igraju ključnu ulogu u uređajima s izvorima spalacijskih neutrona. Spalacijski izvori neutrona proizvode neutrone bombardiranjem teških atomskih jezgri protonima visoke energije, koji se koriste za proučavanje mikrostrukture i dinamičkih svojstava materije. Volfram je postao preferirani materijal u uređajima za nuklearnu fuziju i izvorima spalacijskih neutrona zbog svoje visoke točke taljenja, visoke toplinske vodljivosti i niske brzine raspršivanja.