Polje poluvodiča: U procesu metalizacije izrade poluvodičkih čipova, film volfram -oksida je široko proučavani funkcionalni materijal, uglavnom se koristi kao integrirani sloj difuzijske barijere u krugu, sloj vezanja i veliki integrirani memorijski elektroda.Cilj volframvažan je supstrat za film volfram oksida kako bi postigao svoj funkcionalni prijelaz na poluvodičkim uređajima. Integrirani krugovi poluvodiča imaju vrlo visoke zahtjeve za čistoću ciljnih materijala, za koje obično zahtijeva da čistoća ciljnih materijala bude iznad 99,999%.
Zaslon uzorka proizvoda za volfram
Cilj volfram
Metalni metal volfram